上海复旦大学微电子学院购买了一套EDC湿法刻蚀显影系统-带单工位湿站台，用于集成电路，半导体器件领域的研究，上周我们售后技术工程师去到现场完成设备的安装调试以及用户培训，顺利验收！
PART01
现场安装调试
湿法刻蚀显影系统
工
艺
方
案
设备型号：EDC-650Hz-8TFM-带单工位湿站台；
基底材料：Si片 8/6/4英寸，GaN片 6/4英寸；
化学试剂：TMAH、AZ238、HCL+HF；
辅助条件：DI rinse，N2 dry，DI bowl wash，N2 purge，DI (BSR)；
应用工艺：主要为显影和刻蚀；
