MYCRO  TECHNOLOGIES

AZ®4500系列   AZ4562

具有最佳粘附力的厚光刻胶

特点：

AZ ® 4500系列（AZ ® 4533和AZ ® 4562）是正性厚光刻胶，在普通湿法蚀刻和电镀工艺中具有优良的粘附性能：

   优化对所有常见基材的附着力

   宽广的工艺参数窗口，可实现稳定且可重复的光刻工艺

   与所有常见的显影液兼容（基于KOH或TMAH）

   与所有常见的去胶剂兼容（例如AZ100去胶剂、有机溶剂或碱性溶剂）

   对g，h和i线敏感（约320-440 nm）

   光刻胶厚度范围约 3-30微米

AZ ® 4500系列（AZ ® 4533和AZ ® 4562）的溶剂浓度不同，因此可达到的光刻胶膜厚有较大的范围：

光刻胶型号光刻胶膜厚范围包装规格

AZ ® 4533转速为4000 rpm时，膜厚约为3.3 µm；通过改变转速，膜后可达2.5-5 µm。多规格包装，如1L、2.5L等

AZ ® 4562转速为4000 rpm时，膜厚约为3.3 µm；通过改变转速，膜后可达4.5-10 µm；调整旋转轮廓（中等旋涂速度下短时间旋涂），可达30 µm膜厚。多规格包装，如1L、2.5L等